KIMBALL PHYSICS EGH-6210 激光設備技術參數

可聚焦高能電子束，光斑尺寸小至50μm

1keV至60keV

應用：

普通真空物理學
輻射研究
地面轟炸
半導體研究
生物樣本輻射
X射線生成
等離子體激發
熒光研究
表面物理研究
功能/選項：

小斑點尺寸低至50μm
中等電流束至5mA
高電流束至10mA
靜磁聚焦
靜磁束整形（可選）
靜磁偏轉
脈沖能力
操作過程中的內部對齊
差動泵
能量范圍：1keV至60keV
束流：10µA至5mA
光斑尺寸：50µm至10 mm
安裝：2.75英寸（2?）CF

Kimball Physics EGH-6210電子槍及其配套的EGPS-6210電源是一個完整的子系統，可以連接到用戶的真空系統并打開。它可以在非常廣泛的能量、電流和功率范圍內輸送電子。EGH-6210可用于空間材料測試、輻射研究、半導體研究、x射線產生和等離子體激發。

該槍使用單晶六硼化鑭（LaB6）陰極產生高能、可聚焦、小點電子束。束能量和束電流都可以在寬范圍內獨立調節；能量從1keV到60keV，電流從10μA到5mA。電子束可以通過控制柵極的輸入信號進行脈沖。
槍的可調光學元件可以適應不同的發散和一系列的工作距離，適用于各種應用。磁聚焦透鏡的光斑尺寸可以從10毫米到50微米不等。磁性定心和可選的整形線圈提供了額外的束控制，允許用戶偏轉和整形電子束。整形通常會產生橢圓光束，其兩個軸都可以獨立壓縮或延伸。靜磁聚焦透鏡和偏轉整形四極桿都能產生低像差的結果。此外，陰極到陽極的間距可以在內部調節，以改變導電性。

該 調節的陰極饋通組件，允許點火單元相對于陽極和柱進行機械對準。這種對準可以在槍打開光束的情況下實時完成。